一、設備概述：
        KMT-500S原子層沉積系統是專門為工業化中試而研制的全自動生產型單腔原子層沉積系統。該系統配備多種材料的標準沉積工藝配方，滿足工業應用需求。

二、產品優勢：
       先進的軟件控制系統：系統集工藝配方、參數設置、權限設定、互鎖報警、狀態監控等功能于一體；

三、技術指標：
       基片尺寸 8英寸及以下
       基片加熱溫度 室溫～500℃，控制精度±0.1℃
       前驅體輸運系統 標準2路前驅體管路，可選配
       前驅體管路溫度 室溫～200℃，控制精度±0.1℃
       源瓶加熱溫度 室溫～200℃，控制精度±0.1℃
       ALD閥 Swagelok快速高溫ALD專用閥
       本底真空 ＜5*10-3Torr，進口防腐泵
       載氣系統 N2或者Ar
       處理能力 500片8英寸
       生長模式 連續高速沉積模式
       控制系統 PLC+觸摸屏或者顯示器
       電源 50-60Hz, 380V/40A交流電源
       沉積非均勻性 非均勻性＜±1% 片間非均勻性 <±1.5%
       設備尺寸 1400mmx800mmx2000mm

四、可沉積薄膜種類：
       單 質：Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe…
       氮化物：TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN …
       氧化物：TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2…
       其它化合物：GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3,SrTaO6…

五、ALD應用實例：
       高K柵氧化層，存儲容性電介質，銅互連中高深寬比擴散阻擋層，OLED無針孔鈍化層，MEMS的高均勻鍍膜，納米多孔結構鍍膜，特種光纖摻雜，太陽能電池，平板顯示器，光學薄膜，其它各類特殊結構納米薄膜